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【天天快播报】中微公司副总经理杜志游:深耕外延并举 打造业内国际一流

发布时间:2023-06-02 06:56:08 来源: 同花顺财经


(资料图片)

“半导体设备是数码产业的基石。”近日,在由广发证券与上海证券报联合主办的“对话掌门人”精品上市公司交流会上,中微公司副总经理杜志游表示。

中微公司是首批登陆科创板的企业,上市近4年来,公司借力资本市场,在创始人尹志尧的带领下实现了跨越式发展,目前公司已全面覆盖刻蚀设备及部分薄膜沉积设备,并积极布局光学检测设备。

“中微公司开发的四类设备均达到国际先进水平。”杜志游介绍,在等离子体刻蚀领域,中微公司开发的CCP电容性刻蚀机已进入5nm及以下晶圆生产线、进入2D和3D存储器生产线,开发的ICP电感性刻蚀机正在迅速扩大市场占有率,开发的深硅刻蚀机成为国内TSV/MEMS领域主流设备并进入欧洲的MEMS生产线量产。在薄膜设备领域,公司开发的MOCVD在国内外氮化镓基LED市场占据主导地位,公司已组建团队开发EPI设备、LPCVD设备等。

据了解,过去十年,刻蚀和薄膜设备是成长最快的前道半导体设备领域。2022年,刻蚀设备、薄膜设备、光刻机是价值量占比最大的三个类别,其占设备市场比例分别约为22%、22%、17%。其中,在市场规模约230亿美元的刻蚀设备领域,CCP高能等离子体刻蚀设备、ICP低能等离子体刻蚀设备的市场占比分别为47.5%、47.9%。

“先进芯片制程主要靠等离子体刻蚀和薄膜设备的多重模板技术,刻蚀设备和化学薄膜设备的需求大幅增加。”谈及赛道成长空间,杜志游介绍,在逻辑制程上,芯片尺寸越来越小,需要的等离子体刻蚀步骤越来越多,对应也就需要更多的刻蚀设备。在存储领域,从2D到3D,随着存储层数的增加,刻蚀的需求也在大幅增加。

中微公司不断加强技术、人才资金、供应链、客户等方面的竞争力。“公司的CCP单双机台和ICP单双机台可覆盖大部分刻蚀应用。”杜志游介绍,目前,中微公司有超过3311个反应台在客户的106条芯片生产线上实现全面量产。

“中微公司将通过有机成长和外延扩展,发展成为国际一流的微观加工设备公司。”杜志游表示,中微公司总结了四个“十大”,包括产品开发十大原则、战略销售十大准则、营运管理十大章法和精神文化十大作风,助力企业高速、稳定、健康和安全发展。

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